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제품소개

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CLEANING STATION

WAFER RING위에 올려진 제품을 화학약품을 이용하여 세척 및 건조하여 주는 설비임.

 


   

 ※ 주요 사양.


   

•회전 속도 설정가능. (0~ 100rpm)
•2가지 종류의 약품을 동시에 적용가능.
•NOZZLE 방식을 이용하여 강하게 세척이 가능.
•NOZZLE은 고정방식이 아닌 좌.우 이동세척방식으로 제품전체를 넓게 세척이 가능.
•건조시에는 적외선 램프이용.

 

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